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      簡述潔凈工程的氣流是左右潔凈室性能的重要因素

                   潔凈工程主要之作用在于控制產品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度,使產品能在一個良好之環境空間中生產、制造,此空間我們稱之為潔凈室。按照慣例,無塵凈化主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數量來規定。也就是說所謂無塵并非100%沒有一點灰塵,而是控制在一個微量的單位上。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見的灰塵已經是小的微乎其微,但是對于光學構造而言,哪怕是一點點的灰塵都會產生較大的負面影響,所以在光學構造產品的生產上,無塵是需要的要求。
                   潔凈工程的氣流是左右潔凈室性能的重要因素,一般潔凈室的氣流速度是選0.25~0.5m/s之間,此氣流速度屬微風區域,易受人、機器等的動作而干擾趨于混亂、雖增加風速可控制此一擾亂之影響而保持潔凈度、但因風速的上升,將影響運轉成本的增加,所以應在合乎要求的潔凈度水準之時,能以適當的風速供應,以達適當的風速供應以達經濟性效果。
                   另一方面欲達潔凈室潔凈度之穩定效果,均一氣流之保持亦為一重要因素,均一氣流若無法保持,表示風速有異,主要是在壁面,氣流會延著壁面發生渦流作用,此時要實現高潔凈度事實上很困難。
                   垂直層流式方向要保持均一氣流要:(a)吹出面的風速不可有速度上的差異;(b)地板回風板吸入面之風速不可有速度上的差異。速度過低或過高(0.2m/s,0.7m/s)均有渦流之現象發生,而0.5m/s之速度,氣流則較均一,一般潔凈室,其風速均取在0.25~0.5m/s之間。

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